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【发明公布】一种硅片限位挂架及硅片上下料装置_昆山科比精工设备有限公司_202410313830.3 

申请/专利权人:昆山科比精工设备有限公司

申请日:2024-03-19

公开(公告)日:2024-04-19

公开(公告)号:CN117902318A

主分类号:B65G47/91

分类号:B65G47/91;H01L21/677

优先权:

专利状态码:在审-实质审查的生效

法律状态:2024.05.07#实质审查的生效;2024.04.19#公开

摘要:本发明提供一种硅片限位挂架及硅片上下料装置,用于解决现有垂直连续式电镀设备的挂具与开夹组件,不适用于硅片的批量化镀铜,加工效率低,不利于硅片应用推广的问题。为本发明提供一种硅片限位挂架及硅片上下料装置,通过在一个挂架上设置多个硅片装载空间,使上下料机构上的硅片单元吸盘与硅片装载空间的分布位置一一对应,可对多个硅片进行同时上料或下料,保证了硅片镀铜的加工效率;通过左端上下料机构进行硅片上料的动作,对硅片上侧和下侧的工艺边进行压制限位,保证了硅片垂直镀铜处理中位置的稳定性,使得硅片可通过垂直连续式电镀的方式,完成镀铜处理,拓宽了硅片的镀铜处理方式,降低成本,提高质量,推进技术推广。

主权项:1.一种硅片限位挂架及硅片上下料装置,其特征在于,包括:承载机架(1);所述承载机架(1)包括移送轨道和换向桥架,移送轨道的左前端和右前端设置有上下料机构(2),所述承载机架(1)上滑动安装有若干硅片挂架(3),所述承载机架(1)的移送轨道、换向桥架和上下料机构(2)均设置在垂直连续电镀设备的线体安装架上;左端上下料机构(2)用于向空硅片挂架(3)内安装硅片,右端上下料机构(2)用于卸去完成镀铜处理后硅片挂架(3)中的硅片;所述上下料机构(2)包括关节式机械手(201)、取放盘(202)、硅片单元吸盘(203)以及限位导条(205),关节式机械手(201)的上端安装在垂直连续电镀设备的线体安装架上,所述关节式机械手(201)的移动端安装有取放盘(202),所述取放盘(202)的后壁呈矩形阵列设置有二十个硅片单元吸盘(203),移送轨道左右两端的下方设置有限位导条(205),且限位导条(205)的底部固定在垂直连续电镀设备的线体安装架上,硅片挂架(3)自限位导条(205)上部滑动穿过;左前端所述取放盘(202)后壁的左侧和右侧分别水平对应固定有十个启动限位滑块(204a),所述启动限位滑块(204a)内端开设有主动齿牙(2041);右前端所述取放盘(202)后壁的左侧和右侧分别水平对应固定有十个停止限位驱动块(204b)。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 昆山科比精工设备有限公司 一种硅片限位挂架及硅片上下料装置

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