申请/专利权人：松山湖材料实验室;中国科学院西安光学精密机械研究所

申请日：2022-10-10

公开（公告）日：2024-04-19

公开（公告）号：CN117902542A

主分类号：B81B1/00

分类号：B81B1/00;B81C1/00;H01J1/34;H01J9/12;G02B26/00;G02B27/09;G02B27/42

优先权：

专利状态码：在审-实质审查的生效

法律状态：2024.05.07#实质审查的生效;2024.04.19#公开

摘要：本发明公开了一种微纳结构光窗、制备方法以及光学组件。提高光电阴极光谱利用率的微纳光窗包括面板、微纳结构层以及光电阴极，所述面板具有用于接收和透过入射光的第一表面以及与所述正面相对的第二表面，所述第二表面依次顺序层叠连接有所述微纳结构层以及所述光电阴极，所述微纳结构层朝向所述光电阴极的表面具有若干个相同的微结构单元，所述微结构单元包括微孔以及设置于所述微孔内的高折射率膜层。本发明的提高光电阴极光谱利用率的微纳光窗能够实现入射光的强有力的光场调控，在保持光电阴极厚度不变时增加光线在光电阴极中的光程，从而使得光电阴极对光的吸收率提高，增加光生电子数目。

主权项：1.一种提高光电阴极光谱利用率的微纳光窗，其特征在于，包括面板、微纳结构层以及光电阴极，所述面板具有用于接收和透过入射光的第一表面以及与所述正面相对的第二表面，所述第二表面依次顺序层叠连接有所述微纳结构层以及所述光电阴极，所述微纳结构层朝向所述光电阴极的表面具有若干个相同的微结构单元，所述微结构单元包括微孔以及设置于所述微孔内的高折射率膜层。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 松山湖材料实验室;中国科学院西安光学精密机械研究所 微纳结构光窗、制备方法及光学组件

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