申请/专利权人：核工业理化工程研究院有限公司;核工业理化工程研究院

申请日：2024-02-29

公开（公告）日：2024-04-19

公开（公告）号：CN117906474A

主分类号：G01B5/20

分类号：G01B5/20;G01B5/00

优先权：

专利状态码：在审-实质审查的生效

法律状态：2024.05.07#实质审查的生效;2024.04.19#公开

摘要：本发明提供一种束斑形貌测量装置，包括：由钼块制成的测量底座，所述测量底座的底部外形与坩埚熔池的内部形状相适配；由钼块制成的测量块，可拆卸的连接在所述测量底座表面；位置标记线，设置在所述测量块表面，所述位置标记线设置有多条，多条所述位置标记线在所述测量块表面中心交错分布构成用于调节束斑位置的矩形调节区。本发明的方案通过测量底座和测量块的整体厚度稳定，不易产生波动，能够保证测量的准确性；同时测量底座和测量块耐高温且稳定，不会造成电子枪、坩埚熔池等设备污染；通过矩形调节区，能够保证束斑位置调节的准确性；测量块耐高温且稳定，束斑在矩形调节区形成的印记稳定不易变化，配合位置标记线能够准确测量束斑的尺寸。

主权项：1.一种束斑形貌测量装置，其特征在于，包括：由钼块制成的测量底座1，所述测量底座1的底部外形与坩埚熔池11的内部形状相适配；由钼块制成的测量块2，可拆卸的连接在所述测量底座1表面；位置标记线7，设置在所述测量块2表面，所述位置标记线7设置有多条，多条所述位置标记线7在所述测量块2表面中心交错分布构成用于调节束斑位置的矩形调节区。

全文数据：

权利要求：

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