申请/专利权人：上海惠浦机电科技有限公司

申请日：2024-02-02

公开（公告）日：2024-04-19

公开（公告）号：CN117899372A

主分类号：A61N1/44

分类号：A61N1/44;A61N1/36;A61N1/04;A61N1/32

优先权：

专利状态码：在审-公开

法律状态：2024.04.19#公开

摘要：本发明提供一种阵列射流离子暴发生器及焕肤罩，该阵列射流离子暴发生器包括沿厚度方向依次设置的阳极、厚膜介质和阴极；所述阵列射流离子暴发生器在厚度方向开设多个贯穿的微型通孔，所述微型通孔具有梯度结构，所述梯度结构靠近所述阳极一端的截面积大于靠近所述阴极一端的截面积；所述微型通孔利用空气的压差形成单向阀结构，在施加工作电压后形成定向的高速射流离子暴。本发明具备消杀、焕肤功能，且具备轻、小、柔、薄的特质，同时具有功耗低、集成度高的特点。

主权项：1.一种阵列射流离子暴发生器，其特征在于，包括沿厚度方向依次设置的阳极、厚膜介质和阴极；当施加工作电压时，所述阴极向所述阳极发射高速电子，所述高速电子碰撞空气形成离子暴，所述厚膜介质用于阻隔所述阳极和所述阴极以防止电击穿；所述阵列射流离子暴发生器在厚度方向开设多个贯穿的微型通孔，所述微型通孔具有梯度结构，所述梯度结构靠近所述阳极一端的截面积大于靠近所述阴极一端的截面积；所述微型通孔利用空气的压差形成单向阀结构，在施加工作电压后形成定向的高速射流离子暴。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 上海惠浦机电科技有限公司 阵列射流离子暴发生器及焕肤罩

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