申请/专利权人：同方威视技术股份有限公司

申请日：2023-12-27

公开（公告）日：2024-04-19

公开（公告）号：CN117907355A

主分类号：G01N23/04

分类号：G01N23/04

优先权：

专利状态码：在审-实质审查的生效

法律状态：2024.05.07#实质审查的生效;2024.04.19#公开

摘要：本发明提供了一种探测器、辐射成像设备以及安检设备。探测器包括：多个区段，多个区段包括第一区段和第二区段。第一区段包括至少第一类型探测器像素，配置成能够提供信号以标定被检物的至少一部分的物质类型。第二区段包括第二类型探测器像素，配置成能够提供信号以构建被检物的二维透射图像。至少一排探测器像素中的一排探测器像素沿所述被检物移动方向的横向布置。

主权项：1.一种探测器，包括：多个区段，所述多个区段至少包括第一区段和第二区段；其中所述第一区段包括至少一排探测器像素，其中所述至少一排探测器像素中的一排探测器像素包括第一类型探测器像素，配置成能够接收辐射信号以便提供第一信号以构建被检物的第一部分的二维透射图像；其中所述第二区段包括至少一排探测器像素，其中所述至少一排探测器像素中的一排探测器像素包括第二类型探测器像素，配置成能够接收辐射信号以便提供第二信号以构建被检物的第二部分的二维透射图像，所述第二类型探测器像素和所述第一类型探测器像素的探测器类型不同，所述第一信号和所述第二信号被单独处理；以及其中所述第一区段和所述第二区段的所述至少一排探测器像素中的一排探测器像素沿所述被检物移动方向的横向布置。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 同方威视技术股份有限公司 探测器、辐射成像设备以及安检设备

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