申请/专利权人：上海新阳半导体材料股份有限公司

申请日：2020-03-23

公开（公告）日：2024-04-19

公开（公告）号：CN113430066B

主分类号：C11D1/722

分类号：C11D1/722;C11D3/60;C11D3/20;C11D3/28;C11D3/30;C11D3/33;C11D3/34;C11D3/386;C11D3/39;C11D11/00;H01L21/02

优先权：

专利状态码：有效-授权

法律状态：2024.04.19#授权;2023.03.21#实质审查的生效;2021.09.24#公开

摘要：本发明公开了一种用于选择性移除硬遮罩的清洗组合物、其制备方法及应用。所述的清洗组合物由下述原料制得，所述的原料包括以下质量分数的组分：10％‑45％的氧化剂、0‑1.5％的D‑氨基酸氧化酶、0‑2.5％的D型氨基酸、0.1％‑15％的有机碱、0.001％‑15％的螯合剂、0.005％‑15％的缓蚀剂、0.05％‑15％的羧酸铵、0.005％‑1.5％的EO‑PO聚合物L42、0.005％‑2.5％的钝化剂和余量的水，所述的质量分数为各组分质量占各组分总质量的百分比。本发明清洗组合物对多种金属及电介质缓蚀性强，清洗效果佳。

主权项：1.一种清洗组合物，其特征在于，由下述质量分数的原料制得：10%-30%的氧化剂、0-0.01%的D-氨基酸氧化酶、0-0.5%的D型氨基酸、1%-5%的有机碱、0.01%-2%的螯合剂、0.01%-2%的缓蚀剂、0.5%-3%的羧酸铵、0.01%-1%的EO-PO聚合物L42、0.01%-2%的钝化剂和余量的水，所述的质量分数为各组分质量占各组分总质量的百分比；所述的氧化剂为过氧化氢、过氧化脲和过氧乙酸中的一种或多种；所述的D型氨基酸为D-脯氨酸、D-精氨酸和D-组氨酸中的一种或多种；所述的有机碱为四甲基氢氧化铵和或胆碱；所述的螯合剂为乙二胺四乙酸和或1,2-环己二胺-N,N,N',N'-四乙酸；所述的缓蚀剂为苯并三唑和或甲苯三唑；所述的羧酸铵为草酸铵和或柠檬酸三铵；所述的钝化剂为1-苯并三氮唑-1-甲基-1-2-甲基苯并咪唑；所述的水为去离子水、纯水和超纯水中的一种或多种。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 上海新阳半导体材料股份有限公司 用于选择性移除硬遮罩的清洗组合物、其制备方法及应用

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