申请/专利权人:京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司
申请日:2024-01-22
公开(公告)日:2024-04-26
公开(公告)号:CN117936387A
主分类号:H01L21/336
分类号:H01L21/336;H01L21/324;H10K59/121;G09G3/3225
优先权:
专利状态码:在审-实质审查的生效
法律状态:2024.05.14#实质审查的生效;2024.04.26#公开
摘要:本公开提供一种薄膜晶体管的制备方法、显示基板及显示装置,属于显示技术领域,其可解决现有的显示基板容易出现红色拖影的问题。本公开的薄膜晶体管的制备方法包括:利用构图工艺,在基底上形成有源层;对有源层进行退火处理,退火温度为370摄氏度至400摄氏度。
主权项:1.一种薄膜晶体管的制备方法,其特征在于,所述薄膜晶体管的制备方法包括:利用构图工艺,在基底上形成有源层;对所述有源层进行退火处理,退火温度为370摄氏度至400摄氏度。
全文数据:
权利要求:
百度查询: 京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司 薄膜晶体管的制备方法、显示基板及显示装置
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