首页 专利交易 科技果 科技人才 科技服务 商标交易 会员权益 IP管家助手 需求市场 关于龙图腾
 /  免费注册
到顶部 到底部
清空 搜索

【发明公布】反应气体预热的MOCVD设备_杭州龙圣外延科技有限公司_202410269457.6 

申请/专利权人:杭州龙圣外延科技有限公司

申请日:2024-03-10

公开(公告)日:2024-04-26

公开(公告)号:CN117926210A

主分类号:C23C16/18

分类号:C23C16/18;C23C16/455

优先权:

专利状态码:在审-实质审查的生效

法律状态:2024.05.14#实质审查的生效;2024.04.26#公开

摘要:本发明提供了一种反应气体预热的MOCVD设备,包括:反应腔壳,用于提供供反应气体发生化学反应的环境;进气口和排气口,分别用于向反应腔壳内供应反应气体和从反应腔壳内排出气体;以及内筒41,设置在反应腔壳内,并且内筒41与反应腔壳之间形成反应气体通道51,其中,所述MOCVD设备被配置为使得内筒41和反应腔壳之间能够相对旋转;并且其中,所述MOCVD设备被配置为使得反应气体在通过进气口进入反应腔壳前被预热。本发明的反应气体预热的MOCVD设备能够减小MOCVD设备的巨大能耗,降低设备运行成本,具有改善的温度均匀性、气体流动均匀性和或气体浓度均匀性,能够提高半导体器件的沉积质量,能够增大产能。

主权项:1.一种反应气体预热的MOCVD设备,其特征在于,所述MOCVD设备包括:反应腔壳,用于提供供反应气体发生化学反应的环境;进气口和排气口,分别用于向反应腔壳内供应反应气体和从反应腔壳内排出气体;以及内筒41,设置在反应腔壳内,并且内筒41与反应腔壳之间形成反应气体通道51,其中,所述MOCVD设备被配置为使得内筒41和反应腔壳之间能够相对旋转;并且其中,所述MOCVD设备被配置为使得反应气体在通过进气口进入反应腔壳前被预热。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 杭州龙圣外延科技有限公司 反应气体预热的MOCVD设备

免责声明
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息,力求客观、公正,但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解,仅供参考使用,不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。

相关技术
相关技术
相关技术
相关技术