申请/专利权人：杰米纳蒂奥公司

申请日：2022-08-25

公开（公告）日：2024-04-26

公开（公告）号：CN117941029A

主分类号：H01L21/033

分类号：H01L21/033;G03F7/004;G03F7/039;G03F7/32

优先权：["20210825 US 63/236,855"]

专利状态码：在审-实质审查的生效

法律状态：2024.05.14#实质审查的生效;2024.04.26#公开

摘要：一种微制造方法包括在基板上提供第一浮雕图案，在第一浮雕图案中形成含碳侧壁间隔件，移除第一浮雕图案，以及用溶解度转变剂涂布含碳侧壁间隔件。然后，该方法包括在含碳侧壁间隔件上沉积第一聚合物填充物，使溶解度转变剂以预定距离扩散到第一聚合物填充物中，以提供第一聚合物填充物的溶解度转变区域，其中第一聚合物填充物的溶解度转变区域与含碳侧壁间隔件接界，以及对第一聚合物填充物进行显影，使得溶解度转变区域被溶解，从而在含碳侧壁间隔件和第一聚合物填充物之间提供沟槽，在所述沟槽处暴露出基板的一部分。

主权项：1.一种微制造方法，包括：在基板上提供第一浮雕图案，其中所述第一浮雕图案包括第一抗蚀剂；在所述第一浮雕图案上形成含碳侧壁间隔件；移除所述第一浮雕图案；用溶解度转变剂涂布所述含碳侧壁间隔件；在所述含碳侧壁间隔件上沉积第一聚合物填充物，使得所述第一聚合物填充物与所述第一含碳侧壁间隔件接触；使所述溶解度转变剂以预定距离扩散到所述第一聚合物填充物中，以提供所述第一聚合物填充物的溶解度转变区域，其中所述第一聚合物填充物的所述溶解度转变区域与所述含碳侧壁间隔件接界；以及对所述第一聚合物填充物进行显影，使得所述溶解度转变区域被溶解，从而在所述含碳侧壁间隔件和所述第一聚合物填充物之间提供沟槽，在所述沟槽处暴露出所述基板的一部分。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 杰米纳蒂奥公司 基于反间隔件的自对准高阶图案化

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