申请/专利权人：细美事有限公司;三星电子株式会社

申请日：2023-09-25

公开（公告）日：2024-04-26

公开（公告）号：CN117936410A

主分类号：H01L21/67

分类号：H01L21/67;B08B3/02;B08B3/08

优先权：["20221025 KR 10-2022-0138566"]

专利状态码：在审-公开

法律状态：2024.04.26#公开

摘要：一种衬底处理装置包括：衬底支撑结构，包括旋转头，衬底支撑结构被配置为支撑衬底并使衬底旋转；至少一个处理液回收容器，被配置为回收至少一种衬底处理液；以及排放设备，包括第一喷嘴和第二喷嘴，第一喷嘴被配置为将化学品排放到衬底上，并且第二喷嘴被配置为将去离子水排放到衬底上，其中，第一喷嘴包括在第一喷嘴的内表面上被配置为提供粗糙度的表面图案。

主权项：1.一种衬底处理装置，包括：衬底支撑结构，包括旋转头，所述衬底支撑结构被配置为支撑衬底并使所述衬底旋转；至少一个处理液回收容器，被配置为回收至少一种衬底处理液；以及排放设备，包括第一喷嘴和第二喷嘴，所述第一喷嘴被配置为将化学品排放到所述衬底上，并且所述第二喷嘴被配置为将去离子水排放到所述衬底上，其中，所述第一喷嘴包括在所述第一喷嘴的内表面上被配置为提供粗糙度的表面图案。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 细美事有限公司;三星电子株式会社 排放设备和包括该排放设备的衬底处理装置

免责声明
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。

阅读全文 双屏查看 官方信息 专利公告 收藏专利 下载PDF 下载WORD