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申请/专利权人：朗姆研究公司
申请日：2022-09-01
公开（公告）日：2024-04-26
公开（公告）号：CN117941036A
主分类号：H01L21/311
分类号：H01L21/311;H01L21/67;H01J37/32
优先权：["20210902 US 63/240,224"]
专利状态码：在审-实质审查的生效
法律状态：2024.05.14#实质审查的生效;2024.04.26#公开
摘要：提供了一种用于在掩模下方的含碳层中蚀刻特征的方法。提供同时蚀刻和钝化步骤，包括流动包括含硼钝化剂气体和含氧气体的蚀刻气体。由蚀刻气体产生等离子体，其中等离子体蚀刻含碳层中的特征。
主权项：1.一种用于在掩模下方的含碳层中蚀刻特征的方法，其包括：同时蚀刻和钝化步骤，其包括：使包括含硼钝化气体和含氧气体的蚀刻气体流动；以及由所述蚀刻气体产生等离子体，其中所述等离子体蚀刻所述含碳层中的特征。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 朗姆研究公司 用于蚀刻含碳层的方法和装置
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