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申请/专利权人：德国艾托特克有限两合公司
申请日：2022-09-16
公开（公告）日：2024-04-26
公开（公告）号：CN117940614A
主分类号：C25D5/36
分类号：C25D5/36;C25D7/04;B23P15/10
优先权：["20210917 EP 21197523.0"]
专利状态码：在审-公开
法律状态：2024.04.26#公开
摘要：本发明涉及一种在表面上沉积铬层的方法。本发明尤其涉及一种在圆形衬底表面上沉积铬层的方法，所述方法包含激光预处理步骤以便从衬底去除材料。
主权项：1.一种在圆形衬底表面上沉积铬层的方法，所述方法包含以下步骤a提供具有所述表面的衬底，其中所述衬底是具有小于75mm的直径的含铁衬底，b对所述衬底进行预处理，以便产生预处理过的表面，c提供包含以下成分的电镀组合物i铬物质，d提供至少一个阳极，e使包含预处理过的所述表面的所述衬底与所述电镀组合物接触且向所述衬底和所述至少一个阳极施加电流，以便在预处理过的所述表面上以电解方式沉积所述铬层，其中在步骤b中，所述预处理包含b-1用激光对所述衬底的所述表面进行激光处理，以便从所述衬底去除材料。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 德国艾托特克有限两合公司 在圆形衬底表面上沉积铬层的包括激光预处理的方法
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皖公网安备 34010402703815号