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申请/专利权人：应用材料公司
申请日：2022-09-08
公开（公告）日：2024-04-26
公开（公告）号：CN117940855A
主分类号：G05B13/04
分类号：G05B13/04;G05B19/418;G06T1/00;G06N20/00;H01L21/67
优先权：["20210910 US 17/447,337"]
专利状态码：在审-公开
法律状态：2024.04.26#公开
摘要：所揭示的实施方式描述了一种方法，其使用模型来预测由基板处理设备中的技术过程的一或多个阶段引起的样品物理状态的变化，并获得与技术过程的一或多个阶段的实际执行相关联的成像数据。成像数据包括样品的多个区域的一或多种化学元素的分布。方法进一步包括，基于成像数据，识别样品的物理状态的预测变化与由技术过程的一或多个阶段的实际执行引起的样品的物理状态的实际变化之间的差异。方法进一步包括基于所识别的差异确定模型的参数。
主权项：1.一种方法，包含：使用模型来预测由基板处理设备中的技术过程的一或多个阶段引起的样品的物理状态的变化；获取与所述技术过程的所述一或多个阶段的实际执行相关联的成像数据，所述成像数据包含所述样品的多个区域的一或多种化学元素的分布；基于所述成像数据，识别所述样品的所述物理状态的预测变化与由所述技术过程的所述一或多个阶段的所述实际执行而导致的所述样品的所述物理状态的实际变化之间的差异；以及基于所识别的差异确定所述模型的参数。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 应用材料公司 使用来自X射线能量色散光谱线扫描分析的元素图信息来创建处理模型
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