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【发明公布】一种InN/CoNi-MOF异质结光电极材料及其制备方法与应用_华南理工大学_202311752559.5 

申请/专利权人:华南理工大学

申请日:2023-12-19

公开(公告)日:2024-04-26

公开(公告)号:CN117939981A

主分类号:H10K71/16

分类号:H10K71/16;C30B29/40;C30B25/16;C25B11/095;C25B11/067;C25B1/04;C25B1/55;H10K30/20;H10K71/15

优先权:

专利状态码:在审-实质审查的生效

法律状态:2024.05.14#实质审查的生效;2024.04.26#公开

摘要:本发明公开了一种InNCoNi‑MOF异质结光电极材料及其制备方法与应用。该制备方法包括以下步骤:采用分子束外延生长工艺在衬底上生长InN纳米柱;采用三电极系统,生长InN纳米柱的衬底作为工作电极,使用二价镍盐和二价钴盐的溶液作为电解质,5‑15mAcm2的电流密度条件下进行电沉积100‑140s,得到沉积NiCo‑LDH的衬底;将对苯二甲酸溶解于DMF、H2O和乙醇的混合溶剂中,加入沉积NiCo‑LDH的衬底,130‑150℃温度条件下水热反应16‑24小时,得到所述光电极材料。本发明的InNCoNi‑MOF异质结光电极材料具有高光电流密度和最大偏压光电转换效率,适用于光电解水产氢。

主权项:1.一种InNCoNi-MOF异质结光电极材料的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:1采用分子束外延生长工艺在衬底上生长InN纳米柱;2采用三电极系统,步骤1生长InN纳米柱的衬底作为工作电极,使用非还原性二价镍盐和非还原性二价钴盐的溶液作为电解质,5-15mAcm2的电流密度条件下进行电沉积100-140s,得到沉积NiCo-LDH的衬底;3将对苯二甲酸溶解于DMF、H2O和乙醇的混合溶剂中,加入步骤2沉积NiCo-LDH的衬底,130-150℃温度条件下水热反应16-24小时,得到InNCoNi-MOF异质结光电极材料。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 华南理工大学 一种InN/CoNi-MOF异质结光电极材料及其制备方法与应用

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