申请/专利权人：日本电产株式会社

申请日：2019-08-22

公开（公告）日：2024-04-26

公开（公告）号：CN110868787B

主分类号：H05H1/24

分类号：H05H1/24

优先权：["20180828 JP 2018-158966"]

专利状态码：有效-授权

法律状态：2024.04.26#授权;2021.09.10#实质审查的生效;2020.03.06#公开

摘要：本发明提供等离子体处理装置，该等离子体处理装置具有：电压电极，其被施加电压；接地电极，其与接地电位导通；以及被处理物保持架，其对被处理物进行保持，在未向所述电压电极施加所述电压时，所述被处理物处于电位相对于所述电压电极和所述接地电极独立的电浮动状态，通过向所述电压电极施加所述电压，在所述电压电极与所述被处理物之间和所述接地电极与所述被处理物之间的至少一方产生等离子体。

主权项：1.一种等离子体处理装置，其具有：电压电极，其具有电介质，该电压电极被施加电压；接地电极，其具有电介质，该接地电极与接地电位导通；以及被处理物保持架，其对金属制的被处理物进行保持，所述电压电极和所述接地电极分别与所述被处理物对置而使所述电压电极和所述接地电极所分别具有的电介质与所述被处理物对置，在未向所述电压电极施加所述电压时，所述被处理物处于电位相对于所述电压电极和所述接地电极独立的电浮动状态，通过向所述电压电极施加所述电压，在所述电压电极与所述被处理物之间和所述接地电极与所述被处理物之间的至少一方产生等离子体。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 日本电产株式会社 等离子体处理装置

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