申请/专利权人：西默有限公司

申请日：2017-10-04

公开（公告）日：2024-04-26

公开（公告）号：CN114563929B

主分类号：G03F7/20

分类号：G03F7/20;H01L21/66;H01S3/00;H01S3/08;H01S3/106;H01S3/11;H01S3/136;H01S3/137

优先权：["20161017 US 15/295,714"]

专利状态码：有效-授权

法律状态：2024.04.26#授权;2022.06.17#实质审查的生效;2022.05.31#公开

摘要：本公开的实施例涉及对脉冲光束的光谱特性的控制。由光源产生的脉冲光束的光谱特征由一种方法来控制。该方法包括以脉冲重复率产生脉冲光束；将脉冲光束导向光刻曝光装置中接收的衬底，以使衬底暴露于脉冲光束；当脉冲光束曝光衬底时，修改脉冲光束的脉冲重复率。该方法包括确定对脉冲光束的光谱特征的调整量，该调整量补偿脉冲光束的光谱特征的变化，该变化与脉冲光束的脉冲重复率的修改相关。该方法包括在曝光衬底时，通过所确定的调整量来改变脉冲光束的光谱特征，从而补偿光谱特征的变化。

主权项：1.一种控制脉冲光束的光谱特征的方法，所述方法包括：将所述脉冲光束导向衬底，以使所述衬底暴露于所述脉冲光束；当所述脉冲光束曝光所述衬底时，接收修改所述脉冲光束的脉冲重复率的指令；当所述脉冲光束曝光所述衬底时，基于接收到的指令，修改所述脉冲光束的脉冲重复率；确定与对所述脉冲光束的脉冲重复速率的修改相关的、所述脉冲光束的光谱特征的变化；确定对所述脉冲光束的光谱特征的调整量，所述调整量补偿确定的所述脉冲光束的所述光谱特征的变化，所述变化与所述脉冲光束的所述脉冲重复率的所述修改相关；以及当所述脉冲光束曝光所述衬底时，通过确定的调整量来改变所述脉冲光束的所述光谱特征，从而补偿由对所述脉冲重复率的修改导致的所述光谱特征的变化。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 西默有限公司 对脉冲光束的光谱特性的控制

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