申请/专利权人：株式会社LG化学

申请日：2021-09-06

公开（公告）日：2024-04-26

公开（公告）号：CN114787111B

主分类号：C07C7/08

分类号：C07C7/08;C07C11/107

优先权：["20200907 KR 10-2020-0113695","20210830 KR 10-2021-0114794"]

专利状态码：有效-授权

法律状态：2024.04.26#授权;2022.08.09#实质审查的生效;2022.07.22#公开

摘要：提供一种低聚物的制备方法，该方法包括以下步骤：将单体流和溶剂流供应到反应器以进行齐聚反应，从而制备反应产物；将反应器的排出流供应到分离装置，将包含未反应单体的分离装置的上部排出流供应到反应器，并且将分离装置的下部排出流供应到沉淀池；使聚合物在沉淀池中沉淀以去除聚合物，并且将去除了聚合物的分离装置的下部排出流供应到高沸点分离塔；去除高沸点分离塔的下部排出流中的高沸点物质，并且将包含低聚物的高沸点分离塔的上部排出流供应到溶剂分离塔；以及在溶剂分离塔中分离溶剂和低聚物。

主权项：1.一种低聚物的制备方法，所述方法包括以下步骤：将单体流和溶剂流供应到反应器以进行齐聚反应，从而制备反应产物；将所述反应器的排出流供应到分离装置，将包含未反应单体的所述分离装置的上部排出流供应到所述反应器，并且将所述分离装置的下部排出流供应到沉淀池；使聚合物在所述沉淀池中沉淀以去除聚合物，并且将去除了聚合物的所述分离装置的下部排出流供应到高沸点分离塔；去除所述高沸点分离塔的下部排出流中的高沸点物质，并且将包含低聚物的所述高沸点分离塔的上部排出流供应到溶剂分离塔；以及在所述溶剂分离塔中分离溶剂和所述低聚物，其中，在所述沉淀池中分层为包含所述溶剂的上层液和包含所述低聚物的下层液，上层液流被供应到所述溶剂分离塔，下层液流被供应到所述高沸点分离塔，其中，所述沉淀池的所述上层液流中的所述溶剂的含量为90wt%以上，并且其中，所述沉淀池的所述下层液流中的聚合物的含量为10wt%以下。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 株式会社LG化学 低聚物的制备方法

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