申请/专利权人:上海万生合金材料有限公司
申请日:2023-06-25
公开(公告)日:2024-04-26
公开(公告)号:CN116657207B
主分类号:C25D5/10
分类号:C25D5/10;C25D7/06;C25D21/12
优先权:
专利状态码:有效-授权
法律状态:2024.04.26#授权;2023.09.15#实质审查的生效;2023.08.29#公开
摘要:本申请涉及电镀技术领域,具体公开一种铜镀钯金键合线及其电镀工艺。该电镀工艺使用第一镀钯液在铜基线表面电镀第一钯层,再使用第一镀金液镀第二金层,得到半镀品,接着使用第二镀钯液在半镀品上镀第三钯层,最后使用第二镀金液镀第四金层,得到全镀品。第一镀钯液包括四氨基乙酸钯、对羧基苯磺酰胺和6‑氮杂脲嘧啶。该铜镀钯金键合线,由于第一镀钯液中各成分的络合、缓冲等作用,能使钯在铜基表面各处沉积速度均匀,细化钯沉积晶粒,得到致密的第一钯层,镀层覆盖率高,不易剥离铜基线。各镀层覆盖率高,不易剥离,加强了对铜基线的保护,焊接后线身和端部不易氧化,不易被酸碱腐蚀。
主权项:1.一种铜镀钯金键合线的电镀工艺,其特征在于,所述电镀工艺包括:使用第一镀钯液在铜基线表面电镀第一钯层,再使用第一镀金液镀第二金层,得到半镀品,接着使用第二镀钯液在所述半镀品上镀第三钯层,最后使用第二镀金液镀第四金层,得到全镀品;所述第一镀钯液包括四氨基乙酸钯、对羧基苯磺酰胺和6-氮杂脲嘧啶;在电镀过程中,保持所述第一镀钯液中,所述四氨基乙酸钯的浓度为5-8gL,所述对羧基苯磺酰胺的浓度为5-15mgL,所述6-氮杂脲嘧啶的浓度为1-5mgL;所述第二镀钯液包括钯盐、3-氯-4-氟苯胺、双壬萘磺酸钙和β-氰基丙氨酸;在电镀过程中,保持所述第二镀钯液中,所述钯盐的浓度为6-10gL,所述3-氯-4-氟苯胺的浓度为3-13mgL,所述双壬萘磺酸钙的浓度为2-6mgL,所述β-氰基丙氨酸的浓度为12-22mgL。
全文数据:
权利要求:
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