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申请/专利权人：上海微电子装备(集团)股份有限公司
申请日：2020-11-30
公开（公告）日：2024-04-26
公开（公告）号：CN114578655B
主分类号：G03F7/20
分类号：G03F7/20;G03F9/00
优先权：
专利状态码：有效-授权
法律状态：2024.04.26#授权;2022.06.21#实质审查的生效;2022.06.03#公开
摘要：本发明实施例公开了一种边缘曝光装置、方法及光刻设备。装置包括预对准模块、边缘曝光模块、运动模块、控制模块及固定模块；运动模块包括X向运动机构、Y向运动机构、Z向升降机构及旋转台，旋转台用于承载硅片；固定模块包括交接台，交接台用于在预对准模块获取硅片的位置误差后承载硅片，控制模块用于根据位置误差控制运动模块调整旋转台的位置，以实现硅片的预对准；控制模块还用于在预对准后控制运动模块从交接台获取硅片，并移动至边缘曝光模块位置处进行边缘曝光。本发明实施例的技术方案，既能同时实现硅片的预对准和边缘曝光功能，又能减少控制对象，具有结构简单紧凑、成本低、易于模块集成调试等优点。
主权项：1.一种边缘曝光装置，用于对硅片进行预对准和边缘曝光，其特征在于，包括预对准模块、边缘曝光模块、运动模块、控制模块以及固定模块；所述预对准模块、所述边缘曝光模块、所述运动模块和控制模块均与所述固定模块连接，所述预对准模块、所述边缘曝光模块和所述运动模块均与所述控制模块连接；所述运动模块包括X向运动机构、Y向运动机构、Z向升降机构以及旋转台，所述旋转台用于承载所述硅片，所述X向运动机构、所述Y向运动机构和所述Z向升降机构分别用于带动所述旋转台在X向、Y向和Z向运动；所述固定模块包括交接台，所述交接台用于在所述预对准模块获取所述硅片的位置误差后承载所述硅片，所述控制模块用于根据所述位置误差控制所述运动模块调整所述旋转台的位置，以实现所述硅片的预对准；所述控制模块还用于在预对准后控制所述运动模块从所述交接台获取所述硅片，并移动至所述边缘曝光模块位置处进行边缘曝光；其中，X向和Y向垂直，且平行于所述硅片所在平面，Z向和X向、Y向均垂直；所述控制模块还包括坐标切换单元，所述坐标切换单元用于切换不同尺寸硅片对应的坐标系；所述对准模块和所述边缘曝光模块均与所述固定模块固定连接，所述坐标切换单元控制所述X向运动机构或所述Y向运动机构运动以实现不同尺寸硅片的边缘曝光。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 上海微电子装备(集团)股份有限公司 一种边缘曝光装置、方法及光刻设备
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