申请/专利权人:深圳市原速光电科技有限公司
申请日:2023-09-07
公开(公告)日:2024-04-26
公开(公告)号:CN220846265U
主分类号:C23C16/455
分类号:C23C16/455
优先权:
专利状态码:有效-授权
法律状态:2024.04.26#授权
摘要:本实用新型公开了一种进气腔体以及镀膜设备,进气腔体包括:壳体以及分散环,壳体形成有开口向上的反应腔,壳体的外壁设置有连通反应腔的进气孔;分散环设置于反应腔内,分散环与壳体之间设置有与进气孔连通的分散通道,分散环的周向等间隔设置有多个连通分散通道以及反应腔的分散孔,本实用新型实施例提供的进气腔体,惰性气体通过进气孔进入后沿着分散通道流动至分散孔后,再流入反应腔内,惰性气体的流动性较好;分散环上的分散孔为周向间隔布置,从分散孔流出的惰性气体能够均匀并且快速的填充反应腔,并且惰性气体流出时,会形成一个朝向反应腔中心的环形气帘,气帘的稳定性较好,能较好的将工艺气体阻挡在上方。
主权项:1.一种进气腔体,其特征在于,包括:壳体,形成有开口向上的反应腔,所述壳体的外壁设置有连通所述反应腔的进气孔;分散环,设置于所述反应腔内,所述分散环与所述壳体之间设置有与所述进气孔连通的分散通道,所述分散环的周向等间隔设置有多个连通所述分散通道以及所述反应腔的分散孔。
全文数据:
权利要求:
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