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申请/专利权人：奥提赞光晶(上海)显示技术有限公司
申请日：2023-09-28
公开（公告）日：2024-04-26
公开（公告）号：CN220855351U
主分类号：G02B27/01
分类号：G02B27/01
优先权：
专利状态码：有效-授权
法律状态：2024.04.26#授权
摘要：本实用新型涉及光学显示技术领域，具体涉及一种ARVR双模式显示系统及设备。本实用新型中，显示装置发出第一偏振方向光，再经第二光学结构将第一偏振方向光反射至第三光学结构，通过第三光学结构将第一偏振方向光转换成第二偏振方向光后再经过第二光学结构射向人眼；此外，外界的光线穿过遮光装置，依次经第四光学结构和第三光学结构改变其偏振态后，形成第二偏振方向光，该光线透过第二光学结构射入人眼。使用时，控制遮光装置的透光率，当自然光的透过率为100％时，呈现到人眼的显示模式为AR模式，当自然光的透过率为0％时，呈现到人眼的显示模式为VR模式。采用本方案，使设备更加小型化，且满足ARVR的双模式显示。
主权项：1.一种ARVR双模式显示系统，其特征在于，包括显示装置和光路子系统；所述显示装置用于发出第一偏振方向光；所述光路子系统包括：第二光学结构，设置于所述第一偏振方向光的光路上，并与所述第一偏振方向光形成夹角；所述第二光学结构用于反射与所述第一偏振方向光偏振方向相同的光线，并透射与所述第一偏振方向光偏振方向垂直的光线；第三光学结构，设置于所述第二光学结构反射的第一偏振方向光的光路上，用于将所述第二光学结构反射的第一偏振方向光转换为第二偏振方向光；所述第二偏振方向光与所述第一偏振方向光位于所述第二光学结构的同侧，所述第二偏振方向光的偏振方向与所述第一偏振方向光的偏振方向垂直，所述第二偏振方向光穿过所述第二光学结构后射向人眼；第四光学结构，设置于所述第三光学结构远离所述第二光学结构的一侧，并与所述第三光学结构同轴设置，用于改变外界光线的偏振态，所述第四光学结构出射的光依次经过所述第三光学结构和第二光学结构后射向人眼；遮光装置，设置于所述第四光学结构远离所述第三光学结构的一侧，并与所述第四光学结构同轴设置，用于调控所述外界光线的透过率。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 奥提赞光晶(上海)显示技术有限公司 一种AR/VR双模式显示系统及设备
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