申请/专利权人：珠海市华亚智能科技有限公司;珠海市华亚机械科技有限公司

申请日：2023-09-06

公开（公告）日：2024-04-26

公开（公告）号：CN220837022U

主分类号：B08B7/00

分类号：B08B7/00

优先权：

专利状态码：有效-授权

法律状态：2024.04.26#授权

摘要：本实用新型公开了一种等离子清洗装置，旨在提供一种气体分布均匀和清洗效果好的等离子清洗装置。本实用新型包括真空室，所述真空室中设有真空腔体，所述真空室上设置有进气口和抽气口，所述真空腔体中设置有相对的匀气板和匀气挡板，所述匀气板与所述真空腔体的内壁之间设有与所述进气口连通的匀气槽，所述匀气板上设有与所述匀气槽连通的多个匀气孔，所述匀气挡板上设有与所述抽气口连通的多个排气孔。本实用新型应用于清洗设备的技术领域。

主权项：1.一种等离子清洗装置，其特征在于：其包括真空室1，所述真空室1中设有真空腔体2，所述真空室1上设置有进气口3和抽气口5，所述真空腔体2中设置有相对的匀气板6和匀气挡板7，所述匀气板6与所述真空腔体2的内壁之间设有与所述进气口3连通的匀气槽8，所述匀气板6上设有与所述匀气槽8连通的多个匀气孔9，所述匀气挡板7上设有与所述抽气口5连通的多个排气孔10。

全文数据：

权利要求：

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