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申请/专利权人：无锡仁宇科技有限公司
申请日：2023-09-23
公开（公告）日：2024-04-26
公开（公告）号：CN220841886U
主分类号：B41F23/00
分类号：B41F23/00
优先权：
专利状态码：有效-授权
法律状态：2024.04.26#授权
摘要：本实用新型涉及印刷技术领域，且公开了一种印刷基材的高附着力表面处理机构，包括设备框架、料仓、处理仓与气体交换仓，所述料仓设置在设备框架内部左侧，所述处理仓设置在设备框架内部中间，所述气体交换仓设置在设备框架内部右侧；所述处理仓包括设置在处理仓内壁前后的两个链轮，两个所述链轮外壁套接有链板，所述链板上方设置有附着板，所述附着板顶部固定连接有冲压杆，所述冲压杆外壁滑动连接有支撑杆，所述支撑杆顶部固定连接有伺服电机；所述气体交换仓包括设置在气体交换仓内部的气体发生器，该印刷基材的高附着力表面处理机构能够有效的提高印刷基材表面附着力，大大提高了产品的合格率，方便了使用者的使用。
主权项：1.一种印刷基材的高附着力表面处理机构，包括设备框架1、料仓2、处理仓3与气体交换仓4，所述料仓2设置在设备框架1内部左侧，所述处理仓3设置在设备框架1内部中间，所述气体交换仓4设置在设备框架1内部右侧；其特征在于：所述料仓2包括设置在料仓2内壁的固定轮5，所述固定轮5外壁套接有印刷基材6；所述处理仓3包括设置在处理仓3内壁前后的两个链轮7，两个所述链轮7外壁套接有链板8，所述链板8上方设置有附着板9，所述附着板9顶部固定连接有冲压杆10，所述冲压杆10外壁滑动连接有支撑杆11，所述支撑杆11顶部固定连接有伺服电机12的输出端；所述气体交换仓4包括设置在气体交换仓4内部的气体发生器13，所述气体交换仓4内壁顶部设置有探测器14，所述探测器14顶部固定连接有警报灯15。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 无锡仁宇科技有限公司 一种印刷基材的高附着力表面处理机构
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