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申请/专利权人：上海华虹宏力半导体制造有限公司
申请日：2024-01-19
公开（公告）日：2024-04-30
公开（公告）号：CN117952589A
主分类号：G06Q10/20
分类号：G06Q10/20;G06Q10/063;G06Q10/04;G06Q50/04
优先权：
专利状态码：在审-实质审查的生效
法律状态：2024.05.17#实质审查的生效;2024.04.30#公开
摘要：本发明提供一种离子注入机台保养时机的预测方法及预测系统，所述预测方法包括：提供离子注入机台的历史过程数据及对应的历史保养数据；根据历史过程数据中与对应的保养周期的相关性，筛选出若干相关过程参数，利用若干相关过程参数及历史保养数据建立保养周期使用率模块；获取离子注入机台的相关过程参数的当前数据，并将当前数据输入保养周期使用率模块，以获得离子注入机台的保养周期使用率，用于判定当前是否需要保养。在本发明中，根据离子注入机台的历史数据所得到的保养周期使用率模块及其相关过程参数的当前数据，基于离子注入机台的自身特性及实际工况所体现的参数数据，从而可以高效且准确地判断离子注入机台是否需要保养。
主权项：1.一种离子注入机台保养时机的预测方法，其特征在于，包括：提供离子注入机台的历史过程数据及对应的历史保养数据，所述历史保养数据包括所述离子注入机台的离子源相关的保养周期；根据所述历史过程数据中与对应的保养周期的相关性，筛选出若干相关过程参数，利用若干所述相关过程参数及所述历史保养数据建立保养周期使用率模块；获取离子注入机台的所述相关过程参数的当前数据，并将所述当前数据输入所述保养周期使用率模块，以获得所述离子注入机台的保养周期使用率，用于判定当前是否需要保养。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 上海华虹宏力半导体制造有限公司 离子注入机台保养时机的预测方法及预测系统
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