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申请/专利权人：株式会社日立高新技术
申请日：2022-08-30
公开（公告）日：2024-04-30
公开（公告）号：CN117957641A
主分类号：H01L21/3065
分类号：H01L21/3065
优先权：
专利状态码：在审-实质审查的生效
法律状态：2024.05.17#实质审查的生效;2024.04.30#公开
摘要：为了提供使处理的成品率提升的等离子处理装置或其内部构件或它们的制造方法，设为如下结构，具备：处理室，其配置于真空容器内部，在内侧形成等离子；和构件，其配置于该处理室内，表面面对所述等离子，在该构件在其表面具备皮膜，其含有包含氧化钇、氟化钇、氟氧化钇的至少1者和离子半径比+3价的钇离子小的成为+4价或+6价的离子的元素的材料，其含有作为平均而以钇的1.5倍以上的摩尔比包含氧、以所述钇的1倍以上优选1.4倍以上的摩尔比包含氟的所述材料。
主权项：1.一种等离子处理装置，其特征在于，具备：处理室，其配置于真空容器内部，在内侧形成等离子；和构件，其配置于所述处理室内，表面面对所述等离子，所述构件在其表面具备皮膜，所述皮膜含有包含氧化钇、氟化钇、氟氧化钇的至少1者和离子半径比+3价的钇离子小的成为+4价或+6价的离子的元素的材料，所述皮膜含有作为平均而以钇的1.5倍以上的摩尔比包含氧、以所述钇的1倍以上优选1.4倍以上的摩尔比包含氟的所述材料。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 株式会社日立高新技术 等离子处理装置、等离子处理装置的内部构件以及等离子处理装置的内部构件的制造方法
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