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申请/专利权人：杭州盾源聚芯半导体科技有限公司
申请日：2024-02-21
公开（公告）日：2024-04-30
公开（公告）号：CN117954356A
主分类号：H01L21/67
分类号：H01L21/67
优先权：
专利状态码：在审-实质审查的生效
法律状态：2024.05.17#实质审查的生效;2024.04.30#公开
摘要：本发明涉及硅产品加工装置技术领域，具体涉及一种加压刻蚀设备，包括基台，其具有顶部敞口的刻蚀槽；盖板，用于遮盖所述刻蚀槽；所述盖板内侧设有开口槽，所述盖板设有出液口；出液组件位于开口槽内，所述喷管能够在喷孔喷液时所产生的反冲力作用下绕出液口的轴线进行周向转动；环形的压紧件，用于抵压产品上表面，其设于盖板上并环绕在开口槽的外周，所述压紧件能够相对于盖板轴向活动。方案中，喷管上的喷孔喷射方向是朝向开口槽的周壁的，即喷孔是向侧方喷射刻蚀酸液（以下简称酸液），而不是直接喷向产品表面的，如此便可避免直接向产品表面喷液造成刻蚀不均的问题；喷管可以对酸液进行搅拌，使得酸液混合更为均匀，以提高刻蚀效果。
主权项：1.一种加压刻蚀设备，其特征在于，包括：基台，其具有顶部敞口的刻蚀槽；盖板，用于遮盖所述刻蚀槽；所述盖板内侧设有开口槽，所述盖板设有出液口；出液组件，位于开口槽内，包括与出液口转动对接的端头和若干沿端头周向依次布置在端头周侧的喷管，所述喷管均与出液口连通，且所述喷管的侧壁上开设有若干喷孔，其中所述喷孔的喷射方向朝向开口槽的周壁；所述喷管能够在喷孔喷液时所产生的反冲力作用下绕出液口的轴线进行周向转动；环形的压紧件，用于抵压产品上表面，其设于盖板上并环绕在开口槽的外周，所述压紧件能够相对于盖板轴向活动。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 杭州盾源聚芯半导体科技有限公司 一种加压刻蚀设备
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