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【发明公布】基板清洗装置、基板处理装置、及基板清洗装置的维护方法_株式会社荏原制作所_202280060410.8 

申请/专利权人:株式会社荏原制作所

申请日:2022-06-28

公开(公告)日:2024-04-30

公开(公告)号:CN117957638A

主分类号:H01L21/304

分类号:H01L21/304

优先权:["20210910 JP 2021-147973"]

专利状态码:在审-实质审查的生效

法律状态:2024.05.17#实质审查的生效;2024.04.30#公开

摘要:基板清洗装置31具备辊清洗构件61与旋转保持部100。旋转保持部100具备非接触密封部140,其配置于轴承部130与辊清洗构件61之间,且将轴部110与壳体部120的间隙密封。非接触密封部140具备:旋转部150,安装于轴部110,在周面150a隔着间隔在轴向上形成有多个凸部151;及固定部160,安装于壳体部120,包围多个凸部151,且在包围多个凸部151的内周面160a形成有气体供给孔161,气体供给孔161从比多个凸部151之中配置于轴向两端部的凸部151在轴向上靠内侧的位置供给压缩气体200。

主权项:1.一种基板清洗装置,其特征在于,具备:辊清洗构件,该辊清洗构件擦洗基板;及旋转保持部,改旋转保持部保持所述辊清洗构件的轴向上的端部,所述旋转保持部具备:轴部,该轴部连接于所述辊清洗构件的轴向上的端部;壳体部,该壳体部包围所述轴部;轴承部,该轴承部配置于所述壳体部的内部,且对所述轴部进行轴支承;及非接触密封部,该非接触密封部配置于所述轴承部与所述辊清洗构件之间,且将所述轴部与所述壳体部的间隙密封,所述非接触密封部具备:旋转部,该旋转部安装于所述轴部,且在周面上在轴向上隔着间隔形成有多个凸部;及固定部,该固定部安装于所述壳体部,并且该固定部包围所述多个凸部,且在包围所述多个凸部的内周面形成有气体供给孔,该气体供给孔从比所述多个凸部之中配置于轴向两端部的凸部在轴向上靠内侧的位置供给压缩气体。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 株式会社荏原制作所 基板清洗装置、基板处理装置、及基板清洗装置的维护方法

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