申请/专利权人：国立大学法人香川大学

申请日：2022-09-01

公开（公告）日：2024-04-30

公开（公告）号：CN117957427A

主分类号：G01J3/453

分类号：G01J3/453;G01J3/02

优先权：["20210914 JP 2021-149236"]

专利状态码：在审-实质审查的生效

法律状态：2024.05.17#实质审查的生效;2024.04.30#公开

摘要：分光测定装置1具备：准直光学系统15，其对来自试样S的测定点a的物体光进行准直；光检测器21，其具有在规定的方向上排列有多个像素的受光面；共轭面成像光学系统11，其设置在试样与准直光学系统之间，用于形成与该试样的表面在光学上共轭的面；振幅型衍射光栅13，其配置于所述共轭的面，所述振幅型衍射光栅13是通过在遮光构件设置多个开口而得到的，该遮光构件的光入射面或光出射面由物体光的波长范围下的遮光率高于硅的遮光率的材料形成；光路长度差赋予光学系统16，其将准直后的物体光分割为第一光束和第二光束并赋予光路长度差；以及干涉光学系统17，其使被赋予了光路长度差的第一光束与第二光束干涉，来沿着所述规定的方向在所述受光面形成干涉像。

主权项：1.一种分光测定装置，其特征在于，具备：准直光学系统，其对从试样的表面的测定点发出的物体光进行准直；光检测器，其具有在规定的方向上排列有多个像素的受光面；共轭面成像光学系统，其设置在所述试样与所述准直光学系统之间，用于在与该准直光学系统之间形成与该试样的表面在光学上共轭的面；振幅型衍射光栅，其配置于所述共轭的面，所述振幅型衍射光栅是通过在遮光构件沿与所述规定的方向对应的方向设置多个开口而得到的，其中，该遮光构件的入射所述物体光的光入射面或射出该物体光的光出射面由所述物体光的波长范围下的遮光率高于硅的遮光率的材料形成；光路长度差赋予光学系统，其将由所述准直光学系统准直后的物体光分割成第一光束和第二光束，并在该第一光束与该第二光束之间赋予光路长度差；以及干涉光学系统，其使由所述光路长度差赋予光学系统赋予了光路长度差的所述第一光束与所述第二光束干涉，来沿着所述规定的方向在所述受光面形成干涉像。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 国立大学法人香川大学 分光测定装置

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