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【发明公布】基于4F系统频谱调控的全息散斑扩散片制作方法_中国科学院重庆绿色智能技术研究院_202410163896.9 

申请/专利权人:中国科学院重庆绿色智能技术研究院

申请日:2024-02-05

公开(公告)日:2024-04-30

公开(公告)号:CN117950097A

主分类号:G02B5/02

分类号:G02B5/02;G03F7/20

优先权:

专利状态码:在审-实质审查的生效

法律状态:2024.05.17#实质审查的生效;2024.04.30#公开

摘要:本发明涉及一种基于4F系统频谱调控的全息散斑扩散片制作方法,属于光学技术领域。该方法为:建立全息扩散片单光束曝光光路;建立4F系统;将所述全息扩散片单光束曝光光路与4F系统相结合,对全息扩散片的频谱进行调控;4F系统放置在磨砂玻璃后,光刻胶底片放置在4F系统后,配合不同的掩模版来实现不同光斑形状与角度的调控。本发明通对全息过程的频谱控制过程,使全息散斑扩散片可以轻易实现多种散斑图样的控制,加工难度低,可以实现任意光斑图样的调控。

主权项:1.基于4F系统频谱调控的全息散斑扩散片制作方法,其特征在于:该方法为:建立全息扩散片单光束曝光光路;所述全息扩散片单光束曝光光路包括紫外激光器、非球面镜、小孔、透镜、磨砂玻璃和光刻胶底板;所述紫外激光器发出激光,通过非球面镜聚焦后,再通过小孔与透镜准直扩束后形成激光光斑,激光光斑照射在磨砂玻璃表面使激光光斑发生散射,形成激光散射光,利用光刻胶底板上的光刻胶记录激光散射光的激光散射场,使光刻胶表面形成激光散斑的微结构,制作全息扩散片;建立4F系统;所述4F系统包括第一光阑、第一平凹透镜、第一半月形透镜、第一双面凸透镜、平行平板、第二双面凸透镜、第二半月形透镜、第二平凹透镜和第二光阑;入射的平行光束聚焦到平行平板的表面;所述4F系统的数值孔径为NA=n*sinθ,其中n为空气的折射率、θ为入射光的半角值;将所述激光散射光设置到4F系统的入瞳处,进行频谱调控,利用透镜的傅里叶变换性质,将光刻胶底板放置在透镜的后焦面上,透镜的前焦面和透镜的后焦面上的光场是傅里叶变换的关系,透镜的前焦面上的光场是散斑场的频谱;在设定的平行平板处放置掩模版对散斑场的频谱进行调控,通过4F系统调控后的散斑场的频谱为:Eu,v=F{Ex0,y0}×Tu,v其中,Ex0,y0为入射光场,Tu,v为掩模版的调制函数;u和v为不同方向的频谱信息;F为傅里叶变换;将所述全息扩散片单光束曝光光路与4F系统相结合,对全息扩散片的频谱进行调控;4F系统放置在磨砂玻璃后,光刻胶底片放置在4F系统后,配合不同的掩模版来实现不同光斑形状与角度的调控。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 中国科学院重庆绿色智能技术研究院 基于4F系统频谱调控的全息散斑扩散片制作方法

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