龙图腾网&IPTOP
- 微信扫码登录
- 账号密码登录
- 短信登录/注册
申请/专利权人：上海超导科技股份有限公司
申请日：2023-07-27
公开（公告）日：2024-04-30
公开（公告）号：CN116904955B
主分类号：C23C14/56
分类号：C23C14/56;H01B12/06;C23C14/54;C23C14/58;C23C14/34
优先权：
专利状态码：有效-授权
法律状态：2024.04.30#授权;2023.11.07#实质审查的生效;2023.10.20#公开
摘要：本发明提供了一种离子束辅助沉积镀膜装置，包括：源系统：包括至少一组镀膜系统和至少一组刻蚀系统，镀膜系统包括离子源、蒸发源、激光源或电子束，刻蚀系统包括离子源；真空系统：提供真空环境；走带系统：对带材进行收放卷；控制系统：在控制系统的作用下，所述走带系统进行收放卷，所述镀膜系统对处于真空环境内的带材进行镀膜和或所述刻蚀系统对处于真空环境内的带材进行刻蚀。通过对前几道走带同时进行镀膜和刻蚀，且刻蚀速度大于镀膜速度，使净沉积速度很低，但由于高的刻蚀速度，在此沉积的氧化镁会形成极优的织构度，保证同根带材两端的织构度差别＜10％，最终制备的超导带材，两端的临界电流差别小于10％，进而提高了镀膜效果。
主权项：1.一种离子束辅助沉积镀膜装置，其特征在于，包括：源系统：包括至少一组镀膜系统和至少一组刻蚀系统，所述镀膜系统包括离子源、蒸发源、激光源或电子束，所述刻蚀系统包括离子源；真空系统：提供真空环境；走带系统：对带材进行收放卷；控制系统：在控制系统的作用下，所述走带系统进行收放卷，所述镀膜系统对处于真空环境内的带材进行镀膜和或所述刻蚀系统对处于真空环境内的带材进行刻蚀；所述镀膜系统发射的离子束包括聚焦束或平行束，所述刻蚀系统发射的离子束包括发散束或平行束；所述走带系统包括n道连续走带，n为带材的总道数；所述镀膜系统发出的离子束中心线与靶材的交点对应带材刻蚀镀膜区域的后二分之一n道带材区，形成带材镀膜区；所述刻蚀系统发出的离子束中心线与带材的交点位于带材刻蚀镀膜区域的前二分之一n道带材区，形成带材刻蚀区。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 上海超导科技股份有限公司 离子束辅助沉积镀膜装置及镀膜方法
免责声明
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
主营中国专利交易买卖与专利转让许可,高校科技成果推广与科技成果转化,知识产权运营管理与平台开发,科技人才专家库与科技猎头等科技服务
开放平台
担保交易
惠及多方
会员特惠
专属平台
适合多方
数据共享
功能齐全
皖公网安备 34010402703815号