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申请/专利权人：株式会社普利司通
申请日：2019-07-22
公开（公告）日：2024-04-30
公开（公告）号：CN112469370B
主分类号：A61F2/66
分类号：A61F2/66
优先权：["20180724 JP 2018-138766"]
专利状态码：有效-授权
法律状态：2024.04.30#授权;2021.03.26#实质审查的生效;2021.03.09#公开
摘要：本发明的义足用足底安装于义足的着地区域，其中，该义足用足底在底面设有第1倾斜面部和第2倾斜面部，该第1倾斜面部包含俯视时从规定方向的一侧朝向规定方向的另一侧去以足底厚度方向的凹陷量逐渐增加的方式倾斜的第1倾斜面，该第2倾斜面部包含俯视时从所述规定方向的所述另一侧朝向所述规定方向的所述一侧去以足底厚度方向的凹陷量逐渐增加的方式倾斜的第2倾斜面，所述第1倾斜面部和所述第2倾斜面部在俯视时与所述规定方向交叉的接连方向上相互接连，由此划分出侧壁的一部分由所述第1倾斜面和所述第2倾斜面构成的、沿所述接连方向延伸的连续槽。
主权项：1.一种义足用足底，其安装于义足的着地区域，其中，该义足用足底在底面设有沿足底宽度方向延伸的多个宽度方向槽和由所述多个宽度方向槽划分出且沿足底宽度方向延伸的带状的接地部列，所述接地部列包括多个第1接地部和多个第2接地部，所述第1接地部具备：第1倾斜面部，其包含从足底前后方向的后方朝向前方去以足底厚度方向的凹陷量逐渐增加的方式倾斜的第1倾斜面；以及第1主体部，其包括与路面接触的顶面，该第1主体部在足底前后方向的后方侧与所述第1倾斜面部的所述第1倾斜面相连续，所述第2接地部具备：第2倾斜面部，其包含从足底前后方向的前方朝向后方去以足底厚度方向的凹陷量逐渐增加的方式倾斜的第2倾斜面；以及第2主体部，其包括与路面接触的顶面，该第2主体部在足底前后方向的前方侧与所述第2倾斜面部的所述第2倾斜面相连续，在所述接地部列中，所述第1接地部的所述第1倾斜面部和所述第2接地部的所述第2倾斜面部在足底宽度方向上相互接连，由此划分出侧壁的一部分由所述第1倾斜面和所述第2倾斜面构成的、沿足底宽度方向延伸的连续槽。
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