申请/专利权人:浙江丽晖智能装备有限公司;北京中企祥科技有限公司
申请日:2023-07-13
公开(公告)日:2024-04-30
公开(公告)号:CN220867508U
主分类号:C23C16/458
分类号:C23C16/458;C23C16/511;C23C16/505
优先权:
专利状态码:有效-授权
法律状态:2024.04.30#授权
摘要:本公开涉及一种托盘和等离子体增强化学气相沉积设备,该托盘用于容置晶圆片,所述托盘100构造为矩形,并且所述托盘100的一侧形成有向内凹陷的容置槽110,所述容置槽110用于容置所述晶圆片,所述容置槽110的数量为四个且呈矩形阵列布设于所述托盘100上。通过上述技术方案,该托盘能够提高产能。
主权项:1.一种托盘,所述托盘用于容置晶圆片,其特征在于,所述托盘构造为矩形,并且所述托盘的一侧形成有向内凹陷的容置槽,所述容置槽用于容置所述晶圆片,所述容置槽的数量为四个且呈矩形阵列布设于所述托盘上,所述容置槽构造为与所述晶圆片形状相适配的弓形,并且所述容置槽的平边朝向相邻的另一个所述容置槽的弧边设置。
全文数据:
权利要求:
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