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申请/专利权人：安迈特科技(北京)有限公司
申请日：2023-09-22
公开（公告）日：2024-04-30
公开（公告）号：CN220867504U
主分类号：C23C14/56
分类号：C23C14/56;C23C14/24
优先权：
专利状态码：有效-授权
法律状态：2024.04.30#授权
摘要：本公开提供一种真空蒸镀设备，包括：真空腔体、放卷组件、蒸镀装置以及电磁加热辊。所述放卷组件上设置有基材，所述放卷组件用于释放所述基材；所述收卷组件用于收卷所述基材；所述蒸镀装置设置于所述放卷组件与所述收卷组件之间，用于为所述基材镀膜；所述电磁加热辊为主动辊，设置于所述蒸镀装置与所述收卷组件之间，用于接收所述蒸镀装置加工的所述基材并消除所述基材的卷边。
主权项：1.一种真空蒸镀设备，其特征在于，包括：真空腔体；放卷组件，所述放卷组件上设置有基材，所述放卷组件用于释放所述基材；收卷组件，所述收卷组件用于收卷所述基材；蒸镀装置，设置于所述放卷组件与所述收卷组件之间，用于为所述基材镀膜；以及电磁加热辊，所述电磁加热辊为主动辊，设置于所述蒸镀装置与所述收卷组件之间，用于接收所述蒸镀装置加工的所述基材并消除所述基材的卷边。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 安迈特科技(北京)有限公司 真空蒸镀设备
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