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申请/专利权人：朗姆研究公司
摘要：描述了用于射频RF信号的参数的多电平脉冲化和频率的多电平脉冲化的系统和方法。RF信号通过匹配器被施加到衬底支撑件。参数从低电平脉冲化到高电平，同时频率从低电平脉冲化到高电平。另外，将直流DC参数施加到衬底支撑件或将另一RF信号施加到上电极。施加到衬底支撑件的RF信号的参数和频率与施加到上电极的DC参数或RF信号同时脉冲化，以提高晶片的处理速度，增大掩模的选择性并减小等离子体室内的离子的角展度。
主权项：1.一种射频RF产生器多电平脉冲的方法，包括：生成具有第一参数电平和第一频率电平的RF信号；在时钟周期期间将所述RF信号从所述第一参数电平转变得到多个附加参数电平；在所述时钟周期期间将所述RF信号从所述第一频率电平脉冲至第二频率电平；生成具有第一直流DC参数电平的DC信号；以及在所述时钟周期内将所述DC信号从所述第一DC参数电平转变到第二DC参数电平。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 朗姆研究公司 DC和RF信号的多电平脉冲化
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