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申请/专利权人：信越化学工业株式会社
申请日：2022-08-03
公开（公告）日：2024-05-03
公开（公告）号：CN117980819A
主分类号：G03F1/64
分类号：G03F1/64;G03F7/20
优先权：["20210805 JP 2021-128949"]
专利状态码：在审-公开
法律状态：2024.05.03#公开
摘要：[课题]为了应对特别是在EUV曝光中所要求的最大容许异物尺寸的降低以及供防护膜片暴露的严酷的气压的变动，而实现与贯通防护膜框架而设置的通气孔贴靠的过滤器的高性能化。[解决手段]本发明的防护膜包括：防护膜框架3；防护膜片1，设置于所述防护膜框架的上端面；通气孔6，设置于所述防护膜框架；以及过滤器7，堵塞所述通气孔，所述过滤器的一部分或全部具有纳米纤维或碳纳米管中的至少一者所构成的不织布。
主权项：1.一种防护膜，其特征在于包括：防护膜框架；防护膜片，设置于所述防护膜框架的上端面；通气孔，设置于所述防护膜框架；以及过滤器，堵塞所述通气孔，所述过滤器的一部分或全部具有包含纳米纤维或碳纳米管中的至少一者的片材。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 信越化学工业株式会社 容易进行气压调整的曝光用防护膜
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