申请/专利权人：株式会社东芝;国立大学法人东北大学

申请日：2018-10-25

公开（公告）日：2024-05-03

公开（公告）号：CN111758149B

主分类号：H01L21/205

分类号：H01L21/205;A62D3/36;A62D101/49;C23C16/44

优先权：["20180323 JP 2018-055615","20180323 JP 2018-055698","20180731 JP 2018-144515","20180731 JP 2018-144521"]

专利状态码：有效-授权

法律状态：2024.05.03#授权;2020.10.30#实质审查的生效;2020.10.09#公开

摘要：根据一实施方式，提供一种处理液。处理液是用于对通过使用包含硅及卤素的气体使含硅物在基材上沉积的方法而产生的副产物进行处理的处理液。处理液包含无机碱及有机碱中的至少一者，且为碱性。

主权项：1.一种处理液，其是用于包含使固体或液体状的副产物与处理液进行接触的处理方法的处理液，该固体或液体状的副产物是通过使用包含硅及卤素的气体来合成含硅物的方法而产生的排出气体中所包含的成分聚合而生成的，其中，所述处理液包含选自由烷基氢氧化铵类、有机金属化合物、金属醇盐、胺及杂环式胺构成的组中的至少1种有机碱，且为碱性。

全文数据：

权利要求：

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