申请/专利权人:北海惠科光电技术有限公司;惠科股份有限公司
申请日:2020-07-30
公开(公告)日:2024-05-03
公开(公告)号:CN111883582B
主分类号:H01L29/423
分类号:H01L29/423;H01L29/49;H01L21/336;H01L29/786;H10K59/12;G02F1/1343
优先权:
专利状态码:有效-授权
法律状态:2024.05.03#授权;2021.01.08#实质审查的生效;2020.11.03#公开
摘要:本申请公开了一种栅极、薄膜晶体管的制作方法和显示面板,包括步骤:在衬底上利用物理气相沉积铝金属膜;在铝金属膜上方利用原子层沉积钼金属膜;蚀刻铝金属膜和钼金属膜以形成预设图案的栅极;通过两种不同的方法分别制成两层不同的铝金属膜和钼金属膜作为栅极,所述铝采用物理气相沉积,成膜均匀致密,提高电子的迁移率,增强导电率,所述钼采用原子层沉积技术制成,钼金属膜阶梯覆盖率,沉积的密度均匀,使得导电性较强,同时钼金属膜表面平坦,致密度和平整度较强,对后续制程不会造成残留,提高钼金属膜的界面特性,同时,若用原子层沉积技术制作铝金属膜,所需的时间较长,分开不同的技术方法制程,避免影响产能。
主权项:1.一种栅极的制作方法,其特征在于,包括步骤:在衬底上利用物理气相沉积铝金属膜;在铝金属膜上方利用原子层沉积钼金属膜;以及蚀刻铝金属膜和钼金属膜以形成预设图案的栅极;其中,所述栅极由下层的铝金属膜和上层的钼金属膜组合而成;所述铝金属膜的沉积厚度3500A-4500A;所述钼金属膜沉积厚度100A-450A。
全文数据:
权利要求:
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