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【发明公布】用于氢测量的半导体设备和测量介质中的氢浓度的方法_英飞凌科技股份有限公司_202311407570.8 

申请/专利权人:英飞凌科技股份有限公司

申请日:2023-10-27

公开(公告)日:2024-05-07

公开(公告)号:CN117990746A

主分类号:G01N27/12

分类号:G01N27/12

优先权:["20221103 DE 102022211626.7"]

专利状态码:在审-实质审查的生效

法律状态:2024.05.24#实质审查的生效;2024.05.07#公开

摘要:本申请涉及一种用于借助传感器芯片10测量氢的半导体设备20,传感器芯片具有传感器层14,传感器层在与氢接触时改变其机械应力。传感器芯片10还具有用于检测应力变化的传感器16,其中半导体设备20的结构为传感器层14和或传感器16提供免受其他机械应力的保护。本申请还涉及一种用于测量氢浓度的方法。

主权项:1.一种用于借助传感器芯片10测量氢的半导体设备20,所述传感器芯片具有传感器层14,所述传感器层在与氢接触时改变其机械应力,并且其中所述传感器芯片10还具有用于检测应力变化的传感器16,其中所述半导体设备20的结构为所述传感器层14和或所述传感器16提供免受其他机械应力的保护。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 英飞凌科技股份有限公司 用于氢测量的半导体设备和测量介质中的氢浓度的方法

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