申请/专利权人：ASML荷兰有限公司

申请日：2022-05-18

公开（公告）日：2024-05-07

公开（公告）号：CN117999856A

主分类号：H05G2/00

分类号：H05G2/00

优先权：["20210623 US 63/213,804"]

专利状态码：在审-公开

法律状态：2024.05.07#公开

摘要：公开了一种毛细管保持系统，该毛细管保持系统包括压力激励套圈，该压力激励套圈是双重密封的并且被配置和布置成使得内部目标材料压力起到增加密封压力的作用。根据一个实施例的另一方面，压力激励套圈被配置和布置成使得毛细管上的密封接触压力更靠近构成喷嘴出口的毛细管自由面5，并因此减小毛细管自由长度，进而增加毛细管的弯曲模式，从而使其不太可能被系统振动激励。

主权项：1.一种用于极紫外光源的装置，所述装置包括：喷嘴主体，所述喷嘴主体包括限定腔体的结构，所述腔体用于在压力下保持液体目标材料，所述液体目标材料在处于等离子体状态时发射极紫外EUV光；具有第一端和第二端的毛细管；所述毛细管在所述第一端处与所述腔体流体连通，并且所述第二端限定用于发射所述目标材料的流的喷嘴出口；套圈，所述套圈具有通孔，所述通孔包围所述毛细管的至少纵向部分并与所述毛细管的至少纵向部分形成密封，所述毛细管延伸通过所述通孔；以及喷嘴螺母，所述喷嘴螺母将所述套圈机械联接到所述喷嘴主体；所述套圈的至少一部分具有圆锥形状，其中所述套圈的外径在朝向所述毛细管的所述第二端的方向上减小。

全文数据：

权利要求：

百度查询： ASML荷兰有限公司 用于高压液滴生成器喷嘴的压力激励套圈

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