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申请/专利权人：西北工业大学
摘要：本发明公开了一类含硫二炔单体、高折射率聚酰亚胺薄膜及其制备方法和应用，涉及聚酰亚胺薄膜技术领域。本发明以含硫二元酸酐为基础单体单元，通过与单炔基化合物反应制备了包含酰亚胺结构的含硫二炔基化合物，再与二巯基化合物进行巯基‑炔点击反应最终得到高含硫量聚酰亚胺。本发明制备的聚酰亚胺薄膜，无需复杂的亚胺化及长达24‑48h的聚合时间，无需任何催化剂，在室温下反应2h即可形成高分子量的聚合物。得到的薄膜在633nm处的折射率高达1.7317，双折射仅有0.0003。有望在各种光学器件中得到很好的应用。
主权项：1.一类含硫二炔单体，其特征在于，包括以下化合物：
全文数据：
权利要求：
百度查询： 西北工业大学 一类含硫二炔单体、高折射率聚酰亚胺薄膜及其制备方法和应用
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