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【发明公布】量测方法以及相关联的量测和光刻设备_ASML荷兰有限公司_202280060764.2 

申请/专利权人:ASML荷兰有限公司

申请日:2022-08-02

公开(公告)日:2024-05-07

公开(公告)号:CN117999517A

主分类号:G03F7/20

分类号:G03F7/20

优先权:["20210908 EP 21195563.8"]

专利状态码:在审-公开

法律状态:2024.05.07#公开

摘要:披露了一种确定与至少一个衬底相关的衬底变形指标的方法,所述衬底变形指标描述跨所述至少一个衬底的变形。所述方法包括:获得与使用多种照射条件对所述衬底上的多个结构进行的测量相关的对准数据;和确定所述衬底变形指标的衬底变形指标值,所述衬底变形指标值使扩展由于所述多个结构的结构变形而引起的分散所需的基矢量的数量最少化。

主权项:1.一种确定与至少一个衬底相关的衬底变形指标的方法,所述衬底变形指标描述跨所述至少一个衬底的变形,所述方法包括:获得与使用多种照射条件对所述衬底上的多个结构进行的测量相关的对准数据;和确定所述衬底变形指标的衬底变形指标值,所述衬底变形指标值使扩展由于所述多个结构的结构变形而引起的分散所需的基矢量的数量最少化。

全文数据:

权利要求:

百度查询: ASML荷兰有限公司 量测方法以及相关联的量测和光刻设备

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