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申请/专利权人:东京毅力科创株式会社
摘要:一种用于等离子体加工的方法包括:在等离子体加工室中维持等离子体,该等离子体加工室包括第一射频RF电极和第二RF电极,其中,维持该等离子体包括:将RF源信号耦合到该第一RF电极;以及将偏置信号耦合在该第一RF电极与该第二RF电极之间,该偏置信号具有双极DCB‑DC波形,该B‑DC波形包括多个B‑DC脉冲,这些B‑DC脉冲中的每一个包括:负偏置持续时间,在此期间该脉冲相对于参考电势具有负极性;正偏置持续时间,在此期间该脉冲相对于该参考电势具有正极性;以及中性偏置持续时间,在此期间该脉冲相对于该参考电势具有中性极性。
主权项:1.一种用于等离子体加工的方法,该方法包括:在等离子体加工室中维持等离子体,该等离子体加工室包括第一射频RF电极和第二RF电极,其中,维持该等离子体包括:将RF源信号耦合到该第一RF电极;以及将偏置信号耦合在该第一RF电极与该第二RF电极之间,该偏置信号具有双极DCB-DC波形,该B-DC波形包括多个B-DC脉冲,这些B-DC脉冲中的每一个包括:负偏置持续时间,在此期间该脉冲相对于参考电势具有负极性,正偏置持续时间,在此期间该脉冲相对于该参考电势具有正极性,以及中性偏置持续时间,在此期间该脉冲相对于该参考电势具有中性极性。
全文数据:
权利要求:
百度查询: 东京毅力科创株式会社 利用射频(RF)源和偏置信号波形进行等离子体加工
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