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申请/专利权人：深圳市实锐泰科技有限公司
申请日：2020-08-30
公开（公告）日：2024-05-07
公开（公告）号：CN111918490B
主分类号：H05K3/46
分类号：H05K3/46;H05K3/36;H05K3/22
优先权：
专利状态码：有效-授权
法律状态：2024.05.07#授权;2021.01.08#实质审查的生效;2020.11.10#公开
摘要：本发明公开了一种刚挠结合板的制作方法，在挠性板需要制作阻焊的区域制作阻焊层，并进行高温烘烤，在阻焊层上贴干膜，进行曝光显影，形成干膜层，在干膜层上涂覆湿膜，进行曝光显影，保留与干膜层对应的湿膜图形，形成第一湿膜层，在刚性板对应第一湿膜层的位置上涂覆湿膜，进行曝光显影，保留与第一湿膜层对应的湿膜图形，形成第二湿膜层，对挠性板和刚性板进行排版压合，压合后，对刚性板进行开盖处理，形成开盖区域，开盖区域使干膜层或第一湿膜层外露，去除辅助区域，采用褪膜液褪去干膜层或所述干膜层和第一湿膜层，得到刚挠结合板。本发明提供的刚挠结合板的制作方法能够有效提高刚挠结合板品质，降低开盖过程中的刚挠结合板报废等问题。
主权项：1.一种刚挠结合板的制作方法，取至少一个挠性板和至少两个刚性板进行压合制作，其特征在于，包括：贴合覆盖膜，对覆盖膜开窗处理，在所述挠性板的第一铜层上贴合第一覆盖膜，在所述挠性板的第二铜层上贴合第二覆盖膜；制作阻焊层，在所述挠性板需要制作阻焊的区域制作阻焊层，并进行高温烘烤固化；制作干膜层，在所述阻焊层上贴干膜，进行曝光显影，形成干膜层，所述干膜层不完全覆盖所述阻焊层；制作第一湿膜层，在所述干膜层上涂覆湿膜，进行曝光显影，保留与所述干膜层对应的湿膜图形，形成第一湿膜层；制作第二湿膜层，在所述刚性板对应所述第一湿膜层的位置上涂覆湿膜，进行曝光显影，保留与所述第一湿膜层对应的湿膜图形，形成第二湿膜层；开盖制作，对所述挠性板和所述刚性板进行排版压合，压合后，对所述刚性板进行开盖处理，形成开盖区域，所述开盖区域使所述干膜层或所述第一湿膜层外露；外形冲切成型制作；褪膜，采用褪膜液褪去所述干膜层或所述干膜层和第一湿膜层，得到刚挠结合板。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 深圳市实锐泰科技有限公司 一种刚挠结合板的制作方法及刚挠结合板
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