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申请/专利权人：三星电子株式会社
申请日：2019-07-25
公开（公告）日：2024-05-07
公开（公告）号：CN111211080B
主分类号：H01L21/683
分类号：H01L21/683;H01J37/32
优先权：["20181121 KR 10-2018-0144455"]
专利状态码：有效-授权
法律状态：2024.05.07#授权;2021.09.03#实质审查的生效;2020.05.29#公开
摘要：提供了静电吸盘和包括该静电吸盘的等离子体处理装置。所述静电吸盘包括：吸盘基座；上板，设置在吸盘基座上；以及内板，设置在吸盘基座和上板之间。内板的第一直径小于上板的第二直径。
主权项：1.一种静电吸盘，所述静电吸盘包括：吸盘基座；上板，设置在所述吸盘基座上；以及内板，设置在所述吸盘基座和所述上板之间，所述内板的第一直径小于所述上板的第二直径，其中，所述上板具有0.3mm至1.7mm的第一厚度，其中，所述内板具有7mm至20mm的第二厚度，并且其中，所述内板的第一介电常数小于所述上板的第二介电常数。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 三星电子株式会社 静电吸盘和包括该静电吸盘的等离子体处理装置
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