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【实用新型】一种集成混合式PiN-肖特基二极管的碳化硅MOSFET_北京智慧能源研究院;国家电网有限公司;国网安徽省电力有限公司电力科学研究院_202322363052.2 

申请/专利权人:北京智慧能源研究院;国家电网有限公司;国网安徽省电力有限公司电力科学研究院

申请日:2023-08-31

公开(公告)日:2024-05-07

公开(公告)号:CN220914242U

主分类号:H01L29/78

分类号:H01L29/78;H01L29/06

优先权:

专利状态码:有效-授权

法律状态:2024.05.07#授权

摘要:本公开提供一种集成混合式PiN‑肖特基二极管的碳化硅MOSFET,可通过调节p+区域的宽度,自芯片边缘至芯片中央呈递增的非均匀分布规律,降低芯片中央区域较高的结温,使芯片的温度分布较为均匀;同时通过集成混合PiN‑肖特基二极管增强体二极管的导通性能和抗浪涌电流能力,避免外接续流二极管,从而降低电路设计复杂度和系统成本,提高SiCMOSFET可靠性。

主权项:1.一种集成混合式PiN-肖特基二极管的碳化硅MOSFET,其特征在于:包括多个元胞,每个元胞包括缓冲层、漂移区及漂移层区域中间隔嵌有p区,p区嵌有n+源区和p+区,栅氧化层上表面设有多晶硅栅,栅氧化层和多晶硅栅的外表面共同包裹有隔离介质层;每个元胞在p区一侧的p+区的第一部分之上布置有第一欧姆金属,第一欧姆金属与p+区的第一部分构成第一欧姆接触;两个相邻p+区之间的漂移区构成肖特基区,肖特基区之上设置有肖特基金属;在n+源区和p+区的第二部分上设置有第二欧姆金属,第二欧姆金属和n+源区和p+区的第二部分之间构成源极欧姆接触;其中,靠近碳化硅MOSFET中心部分的元胞,相比处于碳化硅MOSFET边缘部分的元胞,其p+区宽度大。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 北京智慧能源研究院;国家电网有限公司;国网安徽省电力有限公司电力科学研究院 一种集成混合式PiN-肖特基二极管的碳化硅MOSFET

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