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申请/专利权人：中子高新技术产业发展(重庆)有限公司
申请日：2023-09-15
公开（公告）日：2024-05-07
公开（公告）号：CN220915471U
主分类号：H05H6/00
分类号：H05H6/00;H05H3/06;H05K7/20
优先权：
专利状态码：有效-授权
法律状态：2024.05.07#授权
摘要：本实用新型涉及一种中子靶散热结构及中子靶系统。中子靶散热结构包括束流管筒和设于筒内的靶基体，束流管筒的管壁内具有冷却介质流入室、流出室；束流管筒底部有靶冷却结构，靶冷却结构具有入射腔和冷却腔，分别与冷却介质流入室、流出室连通；入射腔和冷却腔由射流板分隔，冷却腔位于靶基体底部，射流板上有射流孔，射流孔的喷射方向对向靶基体；从冷却介质流入室流入入射腔的冷却介质通过射流孔射入冷却腔并对靶基体的下表面射流冲击，从冷却介质流出室流出，同时实现对束流管筒的管壁和靶基体的冷却。本实用新型还提供一种中子靶系统，包括中子靶散热结构。本实用新型解决了现有中子靶存在散热效率低，从而导致靶基体温度和热应力超限的问题。
主权项：1.一种中子靶散热结构，包括束流管筒（1）和设于筒内的靶基体（2），其特征在于，所述束流管筒（1）的管壁内具有冷却介质流入室（11）和冷却介质流出室（12）；所述束流管筒（1）的底部设有靶冷却结构（3），所述靶冷却结构（3）具有入射腔（31）和冷却腔（32），所述入射腔（31）与所述冷却介质流入室（11）连通，所述冷却腔（32）与所述冷却介质流出室（12）连通；所述入射腔（31）和冷却腔（32）由射流板（33）分隔，所述冷却腔（32）位于所述靶基体（2）底部，所述射流板（33）上分布有射流孔（34），所述射流孔（34）的喷射方向对向所述靶基体（2）下表面；从所述冷却介质流入室（11）流入入射腔（31）的冷却介质通过射流孔（34）射入所述冷却腔（32）并对所述靶基体（2）的下表面射流冲击，然后从冷却介质流出室（12）流出，以同时实现对所述束流管筒（1）的管壁和所述靶基体（2）的冷却。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 中子高新技术产业发展(重庆)有限公司 一种中子靶散热结构及中子靶系统
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