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申请/专利权人：汉轩微电子制造(江苏)有限公司
申请日：2024-04-08
公开（公告）日：2024-05-10
公开（公告）号：CN118007071A
主分类号：C23C14/30
分类号：C23C14/30
优先权：
专利状态码：在审-实质审查的生效
法律状态：2024.05.28#实质审查的生效;2024.05.10#公开
摘要：本发明涉及半导体设备技术领域，尤其涉及一种真空镀膜设备，包括：工艺腔；坩埚，位于工艺腔内，坩埚包括坩埚本体及可转动地设置在坩埚本体上方的盖板，坩埚本体固定在工艺腔内且顶部设置有若干用于容纳不同蒸发料的容纳槽，容纳槽的开口朝上，盖板具有缺口；磁力旋转机构，用于驱使盖板相对坩埚本体旋转以使缺口露出不同位置的容纳槽，磁力旋转机构包括若干第一电磁铁及若干第二电磁铁，第一电磁铁沿盖板的周向布置在工艺腔内，第二电磁铁沿盖板的周向布置在盖板上。通过对处于不同位置的第一电磁铁及第二电磁铁进行通电，来驱使盖板相对坩埚本体进行旋转，进而实现了蒸发料的切换。解决了现有真空镀膜设备因坩埚旋转带来的漏水及真空度问题。
主权项：1.一种真空镀膜设备，其特征在于，包括：工艺腔；坩埚，位于所述工艺腔内，所述坩埚包括坩埚本体及可转动地设置在所述坩埚本体上方的盖板，所述坩埚本体固定在所述工艺腔内且顶部设置有若干用于容纳不同蒸发料的容纳槽，所述容纳槽的开口朝上，所述盖板具有缺口；磁力旋转机构，用于驱使所述盖板相对所述坩埚本体旋转以使所述缺口露出不同位置的容纳槽，所述磁力旋转机构包括若干第一电磁铁及若干第二电磁铁，所述第一电磁铁沿所述盖板的周向布置在所述工艺腔内，所述第二电磁铁沿所述盖板的周向布置在所述盖板上。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 汉轩微电子制造(江苏)有限公司 真空镀膜设备
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