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【发明公布】一种高反射率氧化铝陶瓷基板及其制备方法和应用_深圳陶陶科技有限公司_202311864419.7 

申请/专利权人:深圳陶陶科技有限公司

申请日:2023-12-29

公开(公告)日:2024-05-10

公开(公告)号:CN118005425A

主分类号:C04B41/87

分类号:C04B41/87;H01L33/60;H01L33/48;B82Y30/00;B82Y40/00

优先权:

专利状态码:在审-实质审查的生效

法律状态:2024.05.28#实质审查的生效;2024.05.10#公开

摘要:本发明公开了一种高反射率氧化铝陶瓷基板及其制备方法和应用,涉及陶瓷材料技术领域。本发明的高反射率氧化铝陶瓷基板包括氧化铝陶瓷基板衬底和衬底表面形成的氧化锆纳米多孔薄膜结构,所述氧化锆纳米多孔薄膜结构的孔隙率为4‑10%,孔径为100nm‑1000nm。本发明的高反射率氧化铝陶瓷基板在致密的氧化铝陶瓷基板上制备氧化锆纳米多孔薄膜结构显著提高了氧化铝陶瓷基板的光反射率,且保证了一定的抗弯强度。

主权项:1.一种高反射率氧化铝陶瓷基板,其特征在于,包括氧化铝陶瓷基板衬底和衬底表面形成的氧化锆纳米多孔薄膜结构,所述氧化锆纳米多孔薄膜结构的孔隙率为4-10%,孔径为100nm-1000nm。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 深圳陶陶科技有限公司 一种高反射率氧化铝陶瓷基板及其制备方法和应用

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