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【发明公布】一种PtW/Pt复合材料应变薄膜及其制备方法_电子科技大学_202410208568.6 

申请/专利权人:电子科技大学

申请日:2024-02-26

公开(公告)日:2024-05-10

公开(公告)号:CN118007065A

主分类号:C23C14/18

分类号:C23C14/18;C23C14/35;C23C14/58;C23C14/54;B82Y30/00;B82Y40/00;B82Y15/00;C23C14/02;G01B7/16

优先权:

专利状态码:在审-实质审查的生效

法律状态:2024.05.28#实质审查的生效;2024.05.10#公开

摘要:一种PtWPt复合材料应变薄膜及其制备方法,属于薄膜传感器设计与生产技术领域。所述应变薄膜包括PtW层和Pt层;其中,PtW层的厚度为30~100nm,Pt层的厚度为300nm~2000nm,PtW层和Pt层的厚度比为1:10~20;PtW层中,W的质量百分含量为6~8%。本发明采用PtW和Pt双层薄膜结构,PtW层可以增强Pt在氧化物绝缘层上的附着力,抑制Pt的高温团聚,维持Pt薄膜的完整性和均匀性,保持Pt薄膜具有应变灵敏系数和高温稳定性,实现1000℃下应变的准确测量;同时严格控制PtW层和Pt层的厚度比,以及PtW层中W的含量,优化薄膜高温性能,保证薄膜在高温下对应变的准确测量。

主权项:1.一种PtWPt复合材料应变薄膜,其特征在于,所述应变薄膜包括PtW层,以及形成于PtW层之上的Pt层;其中,PtW层的厚度为30~100nm,Pt层的厚度为300nm~2000nm,PtW层和Pt层的厚度比为1:10~20;所述PtW层中,W的质量百分含量为6~8%。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 电子科技大学 一种PtW/Pt复合材料应变薄膜及其制备方法

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