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申请/专利权人：上海华力集成电路制造有限公司
摘要：本发明公开了一种优化线端尺寸补偿的OPC处理方法，包括如下步骤：在版图对应的图层中选择具有受光罩制作尺寸限制的第一图形位置，将第一图形位置对应的线端作为需优化线端。对需优化线端进行初始尺寸补偿，初始尺寸补偿完成后保证第一图形位置处的图形尺寸大于等于光罩制作尺寸限制值。对需优化线端进行分段并得到多个线端区段，包括和第一图形位置邻接的邻接段以及邻接段之外的非邻接段。对非邻接段进行补充尺寸补偿。本发明能消除光罩制作尺寸对线端尺寸补偿的限制，从而实现对线端尺寸补偿优化并从而保证图形工艺窗口。
主权项：1.一种优化线端尺寸补偿的OPC处理方法，其特征在于，包括如下步骤：在版图对应的图层中选择具有受光罩制作尺寸限制的第一图形位置，将所述第一图形位置对应的线端作为需优化线端；对所述需优化线端进行初始尺寸补偿，所述初始尺寸补偿会使所述第一图形位置处的图形尺寸缩小，所述初始尺寸补偿完成后保证所述第一图形位置处的图形尺寸大于等于光罩制作尺寸限制值；对所述需优化线端进行分段并得到多个线端区段，所述线端区段中包括和对应的所述第一图形位置邻接的邻接段以及所述邻接段之外的非邻接段；对所述非邻接段进行补充尺寸补偿，用以对所述需优化线端进行优化，所述需优化线端的尺寸补偿量为所述初始尺寸补偿的第一补偿量和所述补充尺寸补偿的第二补偿量的和。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 上海华力集成电路制造有限公司 优化线端尺寸补偿的OPC处理方法
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